024-89773888
首頁
集團旗下
金真博国际开户太陽能熱水器
榮譽資質
產品中心
案例展示
新聞動態
企業招聘
客戶留言
聯繫我們
024-89773888
名稱
描述
內容
熱門搜索: 關鍵詞1 關鍵詞2 關鍵詞3
產品中心
PRODUCT CENTER
首頁
∷
真博国际开户真空技術
∷
PVD鍍膜設備
∷
工具鍍膜機
工具鍍膜機
發佈時間: 2021-02-17 13:50
工具鍍膜機
PVD1050-8型多弧離子鍍膜機是專門爲工具(功能)鍍膜應用開發的計算機自動控制離子鍍膜機,適用於切屑刃具、模具等鍍膜生產,可獲得更好的膜層質量和耐蝕性能等。
設備可在450~500℃高溫下長期穩定的運行
配置離子源清洗,加裝擋板,實現離子轟擊清洗,輔助沉積
配有步進電機驅動轉架,實現精確定位,轉架可拉出便於裝卸工件
配有φ155大弧源,特點:膜層組織細膩,顆粒小,先進的電磁掃描磁場,弧斑運動速度更快、實現高效濺射。
4縱列弧源配置,可沉積2種不同材料膜系且膜層均勻。
寬水道加強設計,超強剛性,爐體水冷效果好。
高端配置:
萊寶真空單級泵SV200
霍廷格脈衝偏壓36KW
弧電源(IGBT模塊)
萊寶高真空分子泵 MAG2200
VAT氣動插板閥
英福康CDG045D薄膜規
德國BERKERT寶得氣體質量流量計8711型
三菱FX系列PLC邏輯控制器及功能模塊
技術參數:
真空室內尺寸:φ1050x1200
極限真空度:5x10-4Pa
空恢時間:大氣抽到6.7x10-3Pa≤20min
壓升率:≤0.5Pa/h
佔地空間:L3.6×W3.3×H2.5m3
裝機容量:約180KW
主要配置:
弧源:φ155大弧源,8套
離子源: 霍爾離子源或大功率弧光柱型離子源
加熱方式:盤管式加熱器,分區加熱
工件架:下轉架,行星公自轉結構,採用交流伺服電機驅動
控制方式:PLC/觸摸屏控制
脈衝偏壓:40KW
弧電源:200A
主要膜層:TiN ALTiN TiAlSIN TiCN
AlCrN CrN DLC(選配)
真空系統配置:
高真空泵:F-3600分子泵
預抽泵:RTO-300 羅茨泵
2XT-70旋片泵
上一個:
無
下一個:
PVD-DLC鍍膜機