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PVD鍍膜設備
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PVD-DLC鍍膜機
PVD-DLC鍍膜機
發佈時間: 2021-02-17 13:56
PVD-DLC鍍膜機
該設備具有操作方便,裝載量大,工作週期短,生產率高等優點,適合工業化批量生產。
技術參數:
真空室尺寸:φ1000×1000
極限真空度:6.7×10-5Pa
空恢時間:大氣抽到6.7×10-3Pa≤40min
壓升率:≤0.5Pa/h
佔地空間:L4×W3.1×H2.6m3
裝機容量:170KW
主要配置:
陰極濺射源:平面陰極
離子源:陽極層離子源
使用溫度:100~200℃
工件架:(1)可移出式複合轉架,齒輪傳動,配備裝卸車
(2)固定轉架
真空室冷卻方式:水套、水槽冷卻
控制方式:Q系列PLC,15寸觸摸手動-自動控制系統。
進氣控制:4路(混氣後分4路均勻供氣)
脈衝偏壓:3000V,20KW
主要膜層:DLC
膜層特點:低摩擦係數,耐蝕性好,適用於Cu、Al、玻璃纖維等材料的加工
真空系統配置:
高真空泵:FF-3500分子泵
預抽泵: RVP-25直聯泵
RTO-150羅茨泵
維持泵: RVP-18直聯泵
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