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裝飾鍍膜機
裝飾鍍膜機
發佈時間: 2021-02-17 14:10
裝飾鍍膜機
裝飾鍍鍍膜機
採用AIP電弧離子鍍和中頻磁控濺射技術
磁控靶:同軸定向圓柱靶或平面靶
獲得更高鍍膜質量,更好的表面光潔度、膜層緻密性、耐腐蝕性等
技術參數:
真空室內尺寸:φ1350x1500
φ1600x1350
極限真空度:5×10-4Pa
空恢時間:大氣抽到6.7×10-3Pa≤20min
壓升率:≤0.5Pa/h
佔地空間:L3.9×W4.8×H2.5m3
裝機容量:約300Kw
主要配置:
弧源:6/8/10/14套(φ95小弧源)
離子源:霍爾離子源(選配)
中頻磁控陰極:4對(選配)
使用溫度:200~350℃
工件架:行星公自轉結構
真空室冷卻方式:水套、水槽冷卻
控制方式:PLC/觸摸屏控制
進氣控制:4路
脈衝偏壓:40KW
弧電源:160/200A
真空系統配置:
高真空泵:F-3600分子泵
或 KT-600擴散泵
預抽泵: 2XT-70旋片泵
RTO-300羅茨泵
維持泵:2XT-70旋片泵 或 2XT-30旋片泵
公司所生產的真空鍍膜機均採用觸摸屏和PLC計算機自動控制系統。系統分爲手動和自動兩種控制方式,可隨時任意切換。對設備的運行參數進行實時監控顯示,保證了塗層質量的重複性。設備均設有完備的互鎖保護和報警功能,控制系統存儲器可儲存多套工藝參數,免除了每次切換工藝,工藝人員都需要重新輸入工藝參數的工作。
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